光酸化膜とSiH4とN2OガスからのPECVD膜を積層した低温多結晶Si薄膜トランジスタ用ゲート絶縁膜 - I-Scover metadata
ARTICLE

光酸化膜とSiH4とN2OガスからのPECVD膜を積層した低温多結晶Si薄膜トランジスタ用ゲート絶縁膜

Metadata details

now loading...

Related ARTICLE(s)

now loading...

Related metadata

now loading...

Search by external websites

now loading...

Login 日本語